台积电2nm工艺良率领先，英特尔18A提升5%助力处理器推出

台积电、英特尔、三星电子的2nm工艺良率分别为65%、55%、40%。英特尔18A工艺良率提升5%，助力 Panther Lake 处理器发布。台积电预计2026年N2工艺良率可达75%，英特尔代工有望领先三星。

8效率工具台积电英特尔2nm工艺良率提升

台积电2nm工艺表现强劲

近日，有消息指出，台积电、英特尔和三星电子的2nm代工工艺良率分别为65%、55%和40%。其中，台积电的2nm工艺良率最高，有望在未来实现更高的良率目标。

英特尔18A工艺提升

英特尔18A工艺良率相较于上一季度提升了5%，这对于英特尔今年内推出 Panther Lake 处理器具有重要意义。

消息称台积电、英特尔、三星电子 2nm 代工节点良率分别约为 65%、55%、40%插图

台积电N2工艺展望

分析师John Vinh预测，台积电N2工艺良率有望在2026年达到75%，这将使台积电在2nm工艺领域保持领先地位。

英特尔代工未来展望

John Vinh认为，英特尔不会放弃18A工艺的对外代工，因为下一个节点Intel 14A预计要到2027/2028年才能量产。